美国Lumina公司表面缺陷光学扫描仪
日期：2024-08-07 03:25
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摘要：美国Lumina公司表面缺陷光学扫描仪采用**的激光器扫描技术开发出一种新型的光学扫描系统AT1，用来对材料整个表面的缺陷进行绘图和分类，薄膜缺陷扫描灵敏度<0.5nm。其在透明材料上亚纳米薄膜涂层的成像能力是****的，可区分透明基底的顶部/底部特征。AT1已被普遍用于蓝宝石、玻璃和硅等材料的表面缺陷检测。
美国Lumina公司表面缺陷光学扫描仪
美国Lumina公司采用**的激光器扫描技术开发出一种新型的光学扫描系统AT1，用来对材料整个表面的缺陷进行绘图和分类，薄膜缺陷扫描灵敏度<0.5nm。其在透明材料上亚纳米薄膜涂层的成像能力是****的，可区分透明基底的顶部/底部特征。AT1已被普遍用于蓝宝石、玻璃和硅等材料的表面缺陷检测。
美国Lumina公司表面缺陷光学扫描仪产品特征：
1.透明、半透明和不透明的材料均可测量，比如硅、化合物半导体或金属基底；
2.实现亚纳米的薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像；
3.150mm晶圆全表面扫描的扫描时间为3分钟，50x50mm样品30秒内可完成扫描并显示结果；
4.高抗震性能，系统不旋转，形状无关，可容纳非圆形和易碎的基底材料；
5.高达300x300mm的扫描区域；可定位缺陷，以便进一步分析；
AT1有四个检测通道，采用四种独立的方法：偏振，亮场，坡度和暗场，几分钟内，就能提供材料表面的四张完整图像，每个图像代表特定的缺陷：
1.偏振通道用于薄膜、划痕和应力点；
2.坡度通道用于凹坑、凸起；
3.反射通道用于粗糙表面的颗粒；
4.暗场通道用于微粒和划痕；
基于多次检测，AT1生成缺陷图和报告，包括：
1.地图和位置；
2.颜色标注的缺陷；
3.缺陷的尺寸和图像；
美国Lumina公司采用**的激光器扫描技术开发出一种新型的光学扫描系统AT1，用来对材料整个表面的缺陷进行绘图和分类，薄膜缺陷扫描灵敏度<0.5nm。其在透明材料上亚纳米薄膜涂层的成像能力是****的，可区分透明基底的顶部/底部特征。AT1已被普遍用于蓝宝石、玻璃和硅等材料的表面缺陷检测。
美国Lumina公司表面缺陷光学扫描仪产品特征：
1.透明、半透明和不透明的材料均可测量，比如硅、化合物半导体或金属基底；
2.实现亚纳米的薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像；
3.150mm晶圆全表面扫描的扫描时间为3分钟，50x50mm样品30秒内可完成扫描并显示结果；
4.高抗震性能，系统不旋转，形状无关，可容纳非圆形和易碎的基底材料；
5.高达300x300mm的扫描区域；可定位缺陷，以便进一步分析；
AT1有四个检测通道，采用四种独立的方法：偏振，亮场，坡度和暗场，几分钟内，就能提供材料表面的四张完整图像，每个图像代表特定的缺陷：
1.偏振通道用于薄膜、划痕和应力点；
2.坡度通道用于凹坑、凸起；
3.反射通道用于粗糙表面的颗粒；
4.暗场通道用于微粒和划痕；
基于多次检测，AT1生成缺陷图和报告，包括：
1.地图和位置；
2.颜色标注的缺陷；
3.缺陷的尺寸和图像；